疯狂抹黑！两名中国籍高校研究人员在美被捕，美司法部宣称其“破坏证据”“窃取机密”

【环球网报道 记者 侯佳欣】美国司法部又瞄准两名中国籍研究人员。据美国哥伦比亚广播公司（CBS）旗下媒体报道，美国司法部 28 日发布声明称，一名中国籍加州大学洛杉矶分校研究员关磊（Guan Lei，音译）因涉嫌破坏证据妨碍联邦调查局 ( FBI ) 的调查而被逮捕并起诉。此外，弗吉尼亚州另一名中国籍研究员胡海周（Haizhou Hu，音译）也于 28 日当天遭逮捕。

报道称，根据公开的关磊起诉书，美司法部宣称，他于 7 月 25 日被人看见将一个损坏的电脑硬盘丢弃在公寓外的垃圾桶。在关磊被禁止搭机返回中国及拒绝 FBI 检查其电脑的要求后，FBI 找回了损坏的硬盘，发现该设备已无法修好。起诉书还声称，关磊因可能将敏感的美国软件或技术资料移转到国防科技大学 ( NUDT ) 并不实地否认他和中国军方有关。

另据 CBS19 频道报道，根据美国弗吉尼亚州检察官办公室发布的消息，现年 34 岁的胡海周于 28 日被捕，被控未经授权或越权从受保护的计算机上获取信息，以及窃取商业机密。美媒称，他 25 日曾试图从芝加哥某机场前往中国，但在例行检查中被发现携带了未经授权的研究代码。

中国外交部发言人汪文斌此前表示，美方执法部门为了抹黑打压中国，近来不断炒作所谓 " 中国渗透 "、" 中国间谍问题 "，已经到了草木皆兵、杯弓蛇影的地步。众所周知，美国在全球范围内猖獗地大搞间谍窃密活动，连自己盟友都不放过。这些都有实据可查。

上月，美国国立卫生研究院 ( NIH ) 发布了一份关于 " 外国影响美国科研 " 调查的阶段性成果报告。报告显示，NIH 调查的 189 名科学家中只有 7 名 ( 4% ) 存在潜在的知识产权问题，且尚未经法庭检验达到判罪标准。NIH 院长并呼吁美方加强与中国的合作和对话，而不是制造 " 有毒 " 的科研环境。

对此，汪文斌强调，一段时间以来，美方一些人泛化国家安全概念，罗织所谓 " 窃取知识产权 " 等莫须有罪名，诬蔑抹黑中国在美科技人员、留学生。中方已多次就此表明严正立场。现在既然有关调查结果已经发布，我们不知道美方对这个调查结果该作何评论 ?

汪文斌称，全球化时代，人才跨国流动，推动了全球范围内技术和经济的进步。希望美方听取美科技界人士理性客观意见，尊重事实，顺应国际科技合作的普遍规律和时代潮流，多做有利于中美科技交流与合作的事，而不是相反。